Зажигание самостоятельного Е×В-разряда; «вклад ионов» в понимание процесса
- Авторы: Строкин Н.A.1, Ригин А.В.1
 - 
							Учреждения: 
							
- Иркутский национальный исследовательский технический университет
 
 - Выпуск: Том 50, № 1 (2024)
 - Страницы: 134-143
 - Раздел: НИЗКОТЕМПЕРАТУРНАЯ ПЛАЗМА
 - URL: https://clinpractice.ru/0367-2921/article/view/668841
 - DOI: https://doi.org/10.31857/S0367292124010126
 - EDN: https://elibrary.ru/SJDNTZ
 - ID: 668841
 
Цитировать
Полный текст
Аннотация
Определены критические значения напряжения и индукции зажигания для самостоятельного плазменного разряда в скрещенных электрическом и магнитном полях как на индивидуальных инертных газах, так и на их смесях, как плазмообразующих средах. В качестве параметров, позволивших визуализировать зажигание E×B-разряда, использовались ток ионов и производная индукционного тока разряда. Приведены временны́е характеристики процесса. Обнаружена двойная структура тока ионов (тока разряда) в процессе зажигания. Исходным состоянием рабочей среды для первого скачка разрядного тока является нейтральный газ; для второго — плазма. На распределениях ионов по энергии, полученных в процессе зажигания, выделяется пик ионов, рожденных в прикатодной области, и широкий по энергии спектр, отвечающий разрядному промежутку. Показан различный характер зажигания разряда для пеннинговских пар при изменении роли газа в плазмообразующей смеси: основной или примесь. Установлено, что свойства разряда определяются в числе прочего особенностями формирования распределения электрического потенциала в прикатодном слое.
Полный текст
Об авторах
Н. A. Строкин
Иркутский национальный исследовательский технический университет
							Автор, ответственный за переписку.
							Email: strokin85@inbox.ru
				                					                																			                												                	Россия, 							Иркутск						
А. В. Ригин
Иркутский национальный исследовательский технический университет
														Email: strokin85@inbox.ru
				                					                																			                												                	Россия, 							Иркутск						
Список литературы
- Brown S.C. Introduction to electrical discharges in gases (John Wiley & Sons, New York, London, Sydney, 1966). Available at: http://experimentationlab.berkeley.edu/sites/default/files/ Electrical-Discharges-In-Gases.pdf)
 - Raizer Y.P. Gas Discharge Physics (Springer, Berlin, 1991). Available at: https://link.springer.com/book/9783642647604
 - Gallo C.F. // IEEE Trans. Ind. Appl. 1975. V. IA-13. P. 739. doi: 10.1109/TIA.1975.349370
 - Baranov O., Bazaka K., Kersten H., Keidar M., Cvelbar U., Xu S., Levchenko I. // Appl. Phys. Rev. 2017. V. 4. Р. 041302. doi: 10.1063/1.5007869
 - Liu W., Zhang G., Jin C., Xu Y., Nie Y., Shi X., Sun J., and Yang J. // Appl. Phys. Lett. 2022. V. 121. Р. 073301. doi: 10.1063/5.0092988
 - Abolmasov S.N. // Plasma Sourc. Sci. Technol. 2012. V. 21. Р. 035006. doi: 10.1088/0963-0252/21/3/035006
 - Michiels M., Leonova K., Godfroid T., Snyders R., and Britun N. // Appl. Phys. Lett. 2022. V. 121. Р. 051603. doi: 10.1063/5.0096128
 - Goebel D.M. and Katz I. FundamenAALs of Electric Propulsion: Ion and Hall Thrusters (John Wiley & Sons, Hoboken, New Jersey, 2008). Available at: https://descanso.jpl.nasa.gov/SciTechBook/series1/Goebel_cmprsd_opt.pdf.
 - Keidar M. // Plasma Sourc. Sci. Technol. 2015. V. 24. Р. 033001. doi: 10.1088/0963-0252/24/3/033001
 - Keidar М. and Robert E. // Phys. Plasmas. 2015. V. 22. Р. 121901. doi: 10.1063/1.4933406
 - Xu Z., Lan Y., Ma J., Shen J., Han W., Shuheng H.U., Chaobing Y.E., Wenhao X.I., Zhang Y., Yang C., Zhao X., Cheng C. // Plasma Sci. Technol. 2020. V. 22. Р. 103003. doi: 10.1088/2058-6272/ab9ddd
 - Townsend J.S. // J. Sci., Ser. 6. 1913. V. 26. P. 730. doi: 10.1080/14786441308635017
 - Townsend J.S., Gill E.W.B. // J. Sci. Ser. 7. 1938. V. 26. P. 290. doi: 10.1080/14786443808562125
 - Blevin H.A., Haydon S.C. // Aust. J. Phys. 1958. V. 11. P. 18. doi: 10.1071/PH580018
 - Valle G. // Nuovo Cimento. 1950. V. 7. P. 174. doi: 10.1007/BF02781871
 - Heylen A.E.D., Eng C. // IEE Proc. 1980. V. 127. P. 221. doi: 10.1049/ip-a-1.1980.0034
 - Nikulin S.P. // Tech. Phys. 1998. V. 43. P. 795. doi: 10.1134/1.1259092
 - Ellison C.L., Raitses Y., Fisch N.J. // IEEE Trans. Plasma Sci. 2011. V. 39. P. 2950. doi: 10.1109/TPS.2011.2121925
 - Penning F.M. // Naturwiss. 1927. V. 15. P. 818. doi: 10.1007/BF01505431
 - Penning F.M. // Z. Phys. 1929. V. 57. P. 723. doi: 10.1007/BF01340651
 - Penning F.M. // Physica. 1934. V. 1. P. 1028. doi: 10.1016/S0031-8914(34)80297-2
 - Strokin N.A., Bardakov V.M. // Plasma Phys. Rep. 2019. V. 45. P. 46. doi: 10.1063/1.4846898
 - Bardakov V.M., Ivanov S.D., Kazantsev A.V., Strokin N.A. // Rev. Sci. Instrum. 2015. V. 86. 053501. doi: 10.1063/1.4920998
 - Bardakov V.M., Ivanov S.D., Kazantsev A.V., Strokin N.A. // Instrum. Exp. Tech. 2015. V. 58. No. 3. P. 359. doi: 10.1134/S0020441215030045
 - Lai S.T. // AIP Adv. 2020. V. 10. Р. 095324. doi: 10.1063/5.0014266
 - Ohayon B., Wahlin E., Ron G. // J. Instrum. 2015. V. 10. Р. 03009. doi: 10.1088/1748-0221/10/03/P03009
 
Дополнительные файлы
				
			
						
						
						
					
						
									











